ICP-AES法测定氧化铝中二氧化硅含量的实践意义

韦钟泽

平果铝业有限公司分析检测中心

摘　要

文章旨在建立一种准确、高效测定二氧化硅含量的方法。在材料分析领域，准确测定二氧化硅含量对于诸多工业生产与科研工作至关重要，现有方法存在精度或效率不足等问题。为此，研究依据YS/T 630-2016标准，采用电感耦合等离子体发射光谱法开展测定工作。首先利用该光谱法精准测定硅元素的含量，随后乘以硅的氧化物系数，从而间接得到二氧化硅的含量。通过实验验证，该方法展现出良好的准确性与重现性，能够有效满足实际生产和科研中对二氧化硅含量测定的需求，为相关领域的质量控制与研究提供了可靠的技术支持，在提升分析效率与结果可靠性方面具有重要意义。

关键词

二氧化硅；氧化铝；电感耦合等离子体发射光谱法

分类号

TQ133.1；O657.31

栏　目

试验研究

出　处

《冶金与材料》2025年第3期，第 54-56 页（共 3 页）

出版日期

2025-03-28

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