超高纯铜溅射靶材的研究现状及发展趋势

张晓丹，史云胜

紫金矿业集团股份有限公司

摘　要

超高纯铜溅射靶材作为核心功能材料，在半导体、平板显示、太阳能光伏等领域应用广泛。文章系统综述了超高纯铜溅射靶材的国内外研究现状，分析了市场竞争格局、国内产业进展、应用领域拓展及技术研发进展。在此基础上，从市场需求、纯度提升、工艺创新、产业整合等维度探讨了其未来发展趋势，并提出了推动国产化进程与产业升级的建设性建议。当前超高纯铜溅射靶材国产替代提速向好，产业后续成长空间广阔。

关键词

超高纯铜溅射靶材；研究现状；发展趋势；制备工艺；市场需求

分类号

TG146.11

栏　目

实用技术

出　处

《冶金与材料》2026年第8期，第 126-128 页（共 3 页）

出版日期

2026-08-24

知网数据

下载 36 次（截至 2026-09-29）

知网全文（电脑版） 知网公开页

“知网全文（电脑版）”需登录中国知网或在已订购知网的机构 IP 内访问；“知网公开页”无需登录即可查看摘要，并可按知网规定下载全文。